1.氧化硅抛光液
简介
我们的氧化硅抛光液是由高纯硅粉经过先进技术所制成,可以被广泛应用于许多材料在纳米尺度的机械抛光,根据您的需要,我们可以提供各种粒度的相关产品,同时,根据PH,产品可以分为碱性和酸性。
规格
酸性 PH:3.0±0.1 | ACI-1 | ACI-2 | ACI-3 | ACI-4 | ACI-5 | |
碱性 PH:9.5±0.6 | ALK-1 | ALK-2 | ALK-3 | ALK-4 | ALK-5 | |
外观 | 半透明液体 | |||||
重量 | 1.06±0.08 | |||||
成分 | 包含 | 含量w% | ||||
Na2O | <0.2< p=""> | |||||
SiO2 | 18~39 | |||||
Impurity Content | <40ppb< p=""> |
应用范围
锗晶片抛光、硅片抛光、磷化铟抛光、蓝宝石衬底抛光、衬底抛光;
光纤连接器抛光、玻璃抛光、CMP抛光液;
2.金刚石研磨液
简介
我们的金刚石研磨液主要包括聚晶、单晶等不同类型。其主要包含优质金刚石微粉、分散剂、分散介质。针对不同的研抛操作和器件,其成分能够实现专业设计。产品分散性优良、粒度均匀、种类齐全、品质可靠。
应用范围
LED衬底研磨、衬底毛片研磨液、衬底抛光液、蓝宝石窗口片研磨抛光;
硬盘磁头研磨抛光、硬盘盘面研磨抛光;
3.普通研磨液
简介
除了上述两种抛光液之外,我们还可以提供其他类型的研磨液,像氧化铝、碳化硅研磨液,且可以根据您的需要调整其浓度和粒度。
规格
型号 | 粒度µm | 磨料 | 含量wt% |
GF-1 | 2.8 | 氧化铝 | 19 |
GF-2 | 2.6 | 碳化硅 | 22 |
应用范围
手机玻璃面板研磨抛光、硬盘磁头研磨抛光、硬盘盘面研磨抛光;
钛合金研磨、金属配件研磨